Strona główna
EN
   Home    |     Kontakt
Home AKTUALNOŚCI New York University CD SESJE | New York, USA SESJE | Kraków, PL Kontakt
Historia CHIRURGIA | Implant Continuum Education NYU OSIS CEIA ESTETYKA | Aesthetics & Occlusion Continuum Education NYU CD Wykładowcy Dyrektorzy Prasa i relacje

Informacje o programie:

W sierpniu 2009r. OSIS EDI** i CEIA* podpisały umowę współpracy z centrum podyplomowych szkoleń im. Linhart'a, działającym przy College of Dentistry New York University w ramach programu edukacyjnego Implant Continuum Education NYU CD & OSIS & CEIA. Program jest skierowany do lekarzy zainteresowanych zdobyciem i usystematyzowaniem wiedzy z zakresu implanto-protetyki. W programie znajdą się średniozaawansowane i zaawansowane sesje wykładowe, zabiegi i kursy praktyczne. Szkolenia będą się składać z sześciu różnych sesji naukowych, zorganizowanych na NYU CD w USA i w polskich ośrodkach tj. CEIA i WUM. http://ceia.pl/Aktualnosci/Najlepszy-Osrodek-Szkoleniowy-na-Swiecie-w-Twoim-zasiegu

Patronat naukowy i moderowanie sesji:

Prof. zw. dr hab. Andrzej Wojtowicz (OSIS EDI)

Dr n. med. Piotr Majewski (CEIA)

H. Kendall Beacham, MBA (NYU CD)

 

PROWADZĄCY: Christian Stappert, Edgard El Chaar, Ricardo Cocchetto, Michael Sonick, Stephen Wallace, Cyril Evian, George Romanos i inni.

REGULAMIN PROGRAMU.

Ciekawostki dotyczące programu

 

CIEKAWOSTKI DOTYCZĄCE PROGRAMU:

1. Patronami są OSIS i CEIA - program ma akredytacje dwóch polskich ośrodków szkoleniowych,

2. Zaliczany jest do umiejetnosci implantologa OSIS EDI,

3. Posiada punkty edukacyjne, 

4. Liczba uczestników jest ograniczona,

6. Tłumaczony symultanicznie na język polski.

 

OPŁATY:

Koszt kolejnych sesji zależy od ich długości i formy wydarzenia. 

Program można wybrać w produktach BIOMET3i i rozłożyć na 12 miesięcznych równych rat.

Informacje (71) 335 70 71 lub u regionalnego przedstawiciela.

 

Zapraszamy do programu, to niepowtarzalna okazja na szkoleń

w jednym z najlepszych ośrodków szkoleniowych na Świecie.

Klasyfikacja i Certyfikaty

 

KLASYFIKACJA I CERTYFIAKAT PROGRAMU 

IMPLANT CONTINUUM EDUCATION NYU&OSIS&CEIA

Podyplomowy program

więcej

11.CEIA

więcej

Uczestnicy o programie

więcej
Wszelkie prawa zastrzeżone. Copyright © 1998-2010 DENTAL-DEPOT - design by Me & My Friends